等离子体增强原子层沉积系统-光衍未来

等离子体增强原子层沉积系统

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设备简介

主要功能：等离子体增强原子层沉积（PEALD）不仅可以实现普通的 ALD沉积，而且可以降低沉积温度，实现更高质量及不同衬底表面的原子层沉积。目前，等离子体增强原子层沉积设备已成为微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。
主要技术指标：1.最大衬底材料尺寸：≥8英寸2.前驱动源管路：数量≥6路完全独立管路3.腔室结构：主腔体采用双腔（真空腔+反应腔）热壁反应腔室设计4.等离子体腔体最高加热温度：≥400℃5.镀膜均匀性：≤±1.2%6.等离子源：最大功率≥2000W，频率≥13.56MHz7.臭氧发生器：浓度≥10%，臭氧产生量≥8g/h8.控制方式：PLC控制9.上下料方式：Load-lock传递10.真空泵：干泵11.尾气处理系统：包含颗粒捕捉器和后燃阱两个部分
主要学科领域：电子与通信技术
服务内容：具体服务内容需要面议。
用户须知：