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电子束曝光系统
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设备简介
  • 主要功能：基于扫描电镜安装的电子束曝光系统，利用电子束对传统抗蚀剂的曝光作用，加工出图形分辨率高、线条边缘陡直的微纳尺寸图形；它由硬件和软件组成。PC机通过图形发生器和数模转换电路驱动扫描电镜的扫描线圈，使电子束偏转并控制电子束闸的通断，从而实现纳米图形的直接刻写。
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  • 主要技术指标：PCI板嵌入系统，2.5 MHz像素到像素频率； 2 *16 bit DAC，10 bit、0.5微秒AD通道用于图像获取； TTL驱动电子束闸控制。
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  • 主要学科领域：自然科学相关工程与技术
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