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紫外无掩膜激光直写系统
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设备简介
  • 主要功能：精密微电路、和微纳模具的无掩模光刻
  •  
  • 主要技术指标：幅面8英寸，线宽>1微米
  •  
  • 主要学科领域：信息科学与系统科学
  •  
  • 服务内容：光掩膜制版和微图形模具制备
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  • 用户须知：
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