高分辨SEM电子束曝光系统-光衍未来

高分辨SEM电子束曝光系统

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设备简介

主要功能：1. 高精度电子束曝光（主要功能）; 2. 电子束扫描显微镜成像功能; 3. 2018年配置X射线能量色散能谱: 元素定量分析和二维平面元素分析.
主要技术指标：1. 电子光学系统 ★分辨率：二次电子（SE）像 ≤ 1.0 nm @ 15k V；1.4 nm @ 1kV; 加速电压： 0.2kV－30KV。放大倍数误差：≤3 % ★电子枪：Schottky场发射电子枪，最大束流200nA ★ 物镜光阑：物镜光栏能自加热自清洁；无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。光阑采取马达驱动二次电子和背散射电子成像系统：自动调节和手动调节亮度、对比度 2. 样品台：五轴马达驱动 ★样品台移动范围：X/Y≥110mm；Z≥65mm；样品台倾斜角度：T≥-15～+75°；R=360°连续旋转。样品室尺寸：左右>379mm 3. 分析工作距离：5 mm 4. 数字图像记录系统图像处理：最大61 44 x 4096像素；图像显示：单幅图像显示或4帧图像同时显示图像记录 : TIFF, BMP或JPEG; 图像漂移补偿DCFI. 5. 配置Elec trostatic Beam Blanker和Keithley Picomete r (皮安计) 6. 配置NPGS（纳米图形生成系统）9.1，能和NPGS无缝链接完成电子束曝光 7. 配置UHV腔体，有2个以上可扩展窗口，以备以后系统功能扩展，比如做EDS和FIB扩展用
主要学科领域：材料科学
服务内容：1. 石墨烯／二维晶体电子器件的微纳米器件加工。 2. 石墨烯／二维晶体电子器件的表征（SEM）。 3. 石墨烯／二维晶体的物性表征（SEM）。 4. 强自旋－轨道耦合的拓扑量子材料研究。 5. 物理系其他需要微纳米加工平台的课题小组，如超导量子器件研究，纳米材料器件的研究等。
用户须知：