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半自动涂胶显影台
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设备简介
  • 主要功能：涂布光刻胶、显影、去胶
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  • 主要技术指标："最薄匀胶厚度：1um膜厚均匀性：±1%显影分辨率：0.4um显影均匀性：±3%"
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  • 主要学科领域：物理学
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  • 服务内容：涂布光刻胶、显影、去胶
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  • 用户须知：
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