原子层沉积系统-光衍未来

原子层沉积系统

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设备简介

主要功能：该设备可在不同的基板上(平面、复杂三维、多孔基板和粉末)制备薄膜，通过自限制的化学反应（脉冲CVD），可在原子量级控制薄膜厚度，同时其具有优异的沉积共形性，因此特别适合于微/纳光子器件的制作。通过改变反应前聚体，它可沉积氧化物、氟化物等介质薄膜以及Au、Ag等金属薄膜，因而它同时适合于复杂基板上高品质光学薄膜的制备。
主要技术指标：基片尺寸：最大8 英寸(200mm)；加热温度：1000C—5000C（可选配更高）；均匀性： <±1%；前驱体数：7路（其中4路热源，3路液态源）；兼容性：可兼容100 级超净室；真空抽速：30-80 m3/h 气体：纯度99.999%的N2/Ar
主要学科领域：材料科学
服务内容：先进光学与光电子领域，原子层沉积也可用在在微电子high-k材料制备、材化领域囊的表面修饰等方面的应用研究。
用户须知：