热蒸发蒸镀镀膜机-光衍未来

热蒸发蒸镀镀膜机

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设备简介

热蒸发蒸镀镀膜机Evaporator
主要功能：1）4个电子束蒸发位和3个热阻蒸发位，可实现单一材料的镀膜，也可在真空不间断下进行多种类型膜层连续沉积； 2）红外辐照加热衬底系统，可实现衬底预加热去除表面水分子，也可在镀膜过程中对衬底进行持续加热提高薄膜致密度； 3）双石英晶振膜厚测量系统，可以精确控制薄膜沉积速率和最终沉积厚度； 4）可蒸镀铝、铜、钛、铬、金、银、铂、氧化硅、氧化铝、氧化锌等金属和非金属材料； 5) 多种规格样品尺寸挂架，可实现多片不同尺寸样品同时蒸发； -->服务内容：薄膜沉积，样品制备，用户培训，技术咨询（未培训用户可代为制样，培训合格并授权用户可自行操作）
主要技术指标：1) 配备电子束蒸发和热阻（钨舟）蒸发两种镀膜方式； 2) 配置红外辐照衬底加热系统，最高可将衬底加热至350度，片与片间的温度均匀性+/-10度以内； 3) 配置冷凝泵和干泵，镀膜前真空度最高可实现1E-5Pa； 4) 配置双石英晶振膜厚测量系统，可对最终厚度和沉积速率进行设定并控制； 5) 配置不同样品夹具，可对4，3，2英寸直径圆片进行镀膜； 6）金属和非金属薄膜蒸发，片内膜厚均匀性优于5%，片间和批次间膜厚均匀性优于5%； -->样品要求：各种尺寸衬底均可镀膜，小尺寸样品需通过高温胶带粘在2寸或者4寸硅片上；衬底须事先清洗，去除表面污染和颗粒物方可进入反应腔室；衬底不得带有水分或者挥发性物质；
主要学科领域：工程与技术科学基础学科
服务内容：主要用于沉积各种的金属薄膜，如Al，Ag，Ni等作为器件的电极材料；也可用于沉积各向异性的金属薄膜，用于lift-off图形化工艺；还可用于希望避免等离子轰击的镀膜场合，如有机器件等；
用户须知：