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激光直写仪
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设备简介
  • 主要功能：用于MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs和其他微观研究领域。
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  • 主要技术指标：刻写最大面积 200 x 200 mm2 ，焦距离达到 0.6 µm ，•最小分辨距离50 nm。
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  • 主要学科领域：物理学
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  • 服务内容：刻写微纳光学器件，用于MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs和其他微观研究领域。
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  • 用户须知：
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