辉光放电发射光谱仪-光衍未来

辉光放电发射光谱仪

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设备简介

主要功能：用于渗碳渗氮材料、金属镀层、半导体、涂层的表面深度定性、定量分析和金属材料成份分析。目前，仪器配置的定量分析方法如下： ●硅片或二氧化硅上CuInGaSe等深度分析； ●硅片或二氧化硅上SiC,TiB,VC,VN等深度分析； ●锂电池深度分析； ●钕铁硼材料深度分析； ●渗碳渗氮材料深度分析。 ●钢铁材料成份定量分析：针对高、中、低合金钢和工具钢的定量分析方法。
主要技术指标：光源：有DC光源（用于导体材料样品测试）和RF光源（用于含有非导体材料样品测试），最大功率300W，2W可调；光栅：凹面全息光栅,焦距0.75米,2400线/mm；波长范围：119nm～800nm；分辨率：优于0.024nm；溅射速率： 2～5µm/min；深度剖析的范围：1nm～200µm；检出限：钢铁中C,S,P,N的检出限不大于5ppm。
主要学科领域：材料科学
服务内容：表面深度分析（GD-OES），本项目非资质认定（CMA）和实验室认可（CNAS）范围项目，报告仅对委托方负责。,钢铁成分分析（GD-OES）
用户须知：