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双弯曲磁控溅射镀膜装置
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设备简介
  • 双弯曲磁过滤阴极电弧复合磁控溅射镀膜装置
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  • 主要功能：制备不同结构、功能设计的高性能薄膜材料
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  • 主要技术指标：硬度64GPa、膜基结合力（60N）、应力（6GPa）、摩擦系数（0.1）
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  • 主要学科领域：材料科学
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  • 服务内容：制备不同结构、功能设计的高性能薄膜材料
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  • 用户须知：
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