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多轴无掩模微纳加工平台
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设备简介
  • 主要功能：无掩膜图形化微纳加工
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  • 主要技术指标：最小结构10mm^2/min @0.5um，40mm^2/min @ 1um，100mm^2/min @ 2um；405nm LED 3W；自动聚焦调节有效行程100μm；SVG Writing，含阵列数据、大 含阵列数据、大 含阵列数据、大 尺寸 BMP数据处理功能 数据处理功能；同轴 CCD对准光刻功能，精度精度： ±0.5um
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  • 主要学科领域：材料科学
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  • 服务内容：微光学图形、掩模版、光学图像、MEMS等图形化微纳加工
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  • 用户须知：
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