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动态二次离子质谱仪（D-SIMS）
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设备简介
  • 样品要求：以固态薄层、表面平整材料为主，比如衬底或者薄膜。粉末、已封装或者有结构之类的特殊样品需要进行适当制备
  • 1、长宽5-10mm，厚度不超过1mm，真空保存，标记清楚测试面；会破坏样品表面。
  • 2、分析面积100,200,300um见方居多，面积越大溅射速率越慢；
  • 3、分析深度可达5um，最大不超过10um；
  • 4.部分样品可以定量分析（比如，常见的硅中各种掺杂 B, P,As等；各类化合物半导体及其多层结构等），取决于是否有合适的标准样品；
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