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氦离子成像显微镜
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设备简介
  •  主要功能：1. 可以快速加工纳米结构，加工精度10nm； 2. 电子束曝光； 3. 沉积材料：Pt、W、H2O等； 4. 微观形貌观察。
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  • 主要技术指标：1. 氦离子束：分辨率≤ 0.5 nm, 加速电压10-30 kV，束流强度0.1 pA- 100 pA； 2. 氖离子束：分辨率≤ 1.9 nm, 加速电压10-25kV，束流强度0.1 pA - 50 pA； 3. 镓离子束：分辨率≤ 3nm, 加速电压1-30 kV，束流强度1 pA - 100 nA； 4. 成像模式：二次电子。
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  • 主要学科领域：工程与技术科学基础学科
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  •  服务内容：薄膜刻蚀纳米孔；半导体电路中的切割和连接；可进行图形加工；聚焦离子束切割
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