双束聚焦离子刻蚀系统-光衍未来

双束聚焦离子刻蚀系统

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设备简介

主要功能：切割和纳米加工的作用，并有原位成像的辅助功能，加以辅助气体还能实现焊接。
主要技术指标：一、离子束 1. 分辨率：≤3.0nm@30kV； 2. 离子镜筒：Ion-sculpture镜筒； 3. 放大倍率范围不小于：300x~500kx； 4. 束流强度范围不小于：1pA-65nA； 5. 加速电压范围不小于：0.5kV-30kV；二、电子束 1. 分辨率：≤0.9nm@15KV；≤1.8nm@1kV； 2. 最大束流不低于20nA； 3. 放大倍率范围不小于：20x-2000kx； 4. 加速电压范围不小于：0.5kV-30kV；三、样品室及马达台系统 1. 样品室内部尺寸不小于330mm（宽）？330mm（深）？270mm（高）； 2. 六轴高精度超优中心全自动马达样品台：样品台XY方向移动范围不低于100mm，Z方向移动范围不低于10mm，倾斜角度T范围不小于-4°到60°，旋转角度R=360°； 3. 样品预交换室：可放置样品最大尺寸不小于80mm；四、电子束曝光 1. 设备连接后，保证可实现将电镜切换成外部扫描模式； 2. 通过图形发生器设定写场，同时扫描图像后保证图像水平和垂直方向正确； 3. 通过图形发生器实现控制束闸的开关； 4. 通过图形发生器实现扫描电镜和其工作台的远程控制； 5. 使用标样对写场进行校准；
主要学科领域：自然科学相关工程与技术
服务内容：原位失效分析，定点投射样品制备，三维重构等方面
用户须知：无