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高精度光场调控系统
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设备简介
  • 主要功能：用于高通量产生3D暗斑，实现暗斑质量优化，即对暗斑阵列中的每一个暗斑参数进行精准调控，包括：能量，位置，光场分布，像差等。
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  • 主要技术指标：1．工作波长532nm，775nm； 2．支持超分辨3D暗斑生成，具备自适应优化功能； 3．配套软件，全套开放SDK，二次开发包； 4．支持10信道以上的侦测系统； 5．四振镜高速共聚焦扫描； 6．兼容蔡司或尼康等高端倒置显微镜架； 7．对于NA1.4物镜达到像差最优； 8．探测小孔提供10个尺寸供选择使用，电动控制。 9．可用于STED成像，FED成像。
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  • 主要学科领域：物理学
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  •  服务内容：具体服务内容需要面议。
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  •  用户须知：需提前联系确认。
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