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高精度光场调控系统
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设备简介
  • 主要功能:用于高通量产生3D暗斑,实现暗斑质量优化,即对暗斑阵列中的每一个暗斑参数进行精准调控,包括:能量,位置,光场分布,像差等。
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  • 主要技术指标:1.工作波长532nm,775nm; 2.支持超分辨3D暗斑生成,具备自适应优化功能; 3.配套软件,全套开放SDK,二次开发包; 4.支持10信道以上的侦测系统; 5.四振镜高速共聚焦扫描; 6.兼容蔡司或尼康等高端倒置显微镜架; 7.对于NA1.4物镜达到像差最优; 8.探测小孔提供10个尺寸供选择使用,电动控制。 9.可用于STED成像,FED成像。
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  • 主要学科领域:物理学
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  •  服务内容:具体服务内容需要面议。
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  •  用户须知:需提前联系确认。
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