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反应离子干法刻蚀机
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设备简介
  • 主要功能：主要应用于Al金属薄膜材料的刻蚀，具有刻蚀速率高、各向异性好等优点。
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  • 主要技术指标：感应耦合等离子源；功率：1kW；频率：13.56MHz； RF ICP 功率为1kW；RF BIAS 功率为1kW。Al刻蚀工艺：刻蚀速率≥700nm/min；片内均匀性<±10%（六英寸）；片间均匀性<±10%（六英寸）；选择比（对PR）1.5以上；刻蚀角度>75°。
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  • 主要学科领域：自然科学相关工程与技术
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  • 服务内容：微电子学的快速发展推动器件的制作工艺进入微纳米技术时代，湿法刻蚀难以满足越来越高的精度要求。干法刻蚀可从根本上改善湿法所固有的横向钻蚀问题，从而满足微细线条刻蚀的要求。该设备主要服务于小尺寸器件制造工艺。
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  •  用户须知：无
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