- 主要功能:适用于半导体、集成电路领域中,晶圆背面研磨抛光与自动贴膜。
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- 主要技术指标:(1)晶圆尺寸:兼容晶圆芯片尺寸12寸、8寸。 (2)厚度测量:配NCIG(非接触式光学测高)实时测量晶圆研磨厚度变化。 (3)减薄厚度:量产情况下,晶圆最小可减薄到25μm,厚度波动范围不超过±3μm,不带膜验证片内TTV不超过3μm,片间TTV不超过±3um,粗磨细磨后表面粗糙度130nm(2000#磨轮),CMP后表面粗糙度不超过1nm;
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- 主要学科领域:力学,电子与通信技术
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- 服务内容:适用于半导体、集成电路领域中,晶圆背面研磨抛光与自动贴膜,可承接委托加工订单。
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- 用户须知:如需预约委托加工,请提前联系。
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