镀膜机-光衍未来

镀膜机

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设备简介

主要功能：在超高真空下将待蒸镀材料利用电子束加热达到熔化温度使其蒸发，达到并附着在基底表面形成致密均匀目标薄膜，该设备配置三个腔室可依次对样品进行清洗刻蚀、薄膜蒸发、氧化处理等工艺。
主要技术指标：1. 含预真空进样腔体，本底真空度＜6×10-8 Torr；2. 预真空腔体可以对衬底进行多种处理：加载≤4 inch 衬底，支持衬底旋转和衬底倾斜，支持衬底背面加热可达200℃，支持衬底清洗刻蚀；3. 独立蒸镀腔体本底真空度＜1×10-9 Torr；4.电子枪功率 6 kW，至少5 个坩埚，能蒸镀Ti/Au/Cr/Al/Al2O3 等薄膜；5. 薄膜沉积速率分辨率 10-3 nm/s，膜厚分辨率10-2 nm；6. 能够进行双角度蒸镀，倾斜角度重复性和精度优于 0.01°；7. 含有独立氧化腔体，本底真空度＜1×10-8Torr；8. 氧化腔体能够对样品进行静态氧化、动态氧化；9. 全自动电脑控制。
主要学科领域：自然科学相关工程与技术
服务内容：
用户须知：无