- 主要功能：聚焦离子束技术（FIB）是一种集形貌观测、定位制样、成分分析、薄膜淀积和无掩膜刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。聚焦的离子束在半导体行业有着重要作用，可用来切割纳米级结构，对光刻技术中的屏蔽板进行修补，分离和分析集成电路的各个元件，激活由特殊原子组成的材料，使其具有导电性等等。它可用来分析样品化学成分、进行生物研究以及制造保持血管畅通的心脏固定膜等微型医学植入材料。其基本功能可概括为: 定点切割, 选择性的材料蒸镀,强化性蚀刻或选择性蚀刻, 蚀刻终点侦测。在透射电镜试样制作方面，聚焦离子束显微镜是一个优越的手段，能在较短的时间内与高成功率完成。
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- 主要技术指标：电子源: FEG 离子源: Gallium liquid metal 加速电压： SEM≥30KV FIB≥30KV，束流≥50nA SEM二次电子像分辨率: ≤1.2 nm @ 高压模式 ≤2.8 nm @ 低压模式 FIB 分辨率 ≤7 nm
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- 主要学科领域：材料科学,物理学,基础医学,化学工程
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- 服务内容：该仪器设备可实现共享的学科有：材料、物理、微电子、化学、地质、冶金、生物、医学、纳米科技等
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- 用户须知：无
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2023-02-17
