高通量激光分子束外延系统-光衍未来

高通量激光分子束外延系统

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设备简介

主要功能：具有差分RHEED,可以实时监测氧化物薄膜的制备过程；可以通过组合式掩模实现多元组合薄膜的高通量制备。 PLD技术具有巨大的优点，研究者不断探究PLD能够沉积薄膜材料的种类。现在，PLD几乎可以制备现有的各种薄膜材料。目前，该技术在薄膜材料方面的研究主要集中在以下几个方面。1.超导薄膜；2.金刚石和类金刚石薄膜；3.巨磁电阻薄膜；4.铁电、压电和光电薄膜。可提供服务：1.PLD技术培训，以生长SrTiO3薄膜为例，通过RHEED观察到10次以上的震荡；2.常规薄膜的制备；3.特殊材料的生长工艺参数开发；
主要技术指标：1、激光二极管基板加热系统，最高温度1100℃，温度精度不低于+/-1℃，可加热最大样品10*10mm； 2、双轴线性掩模系统，采用电机驱动，移动精度好于100μm； 3、最高工作气压20Pa的二级差分RHEED ； 4、6个1英寸靶位（公转+自转）； 5、全自动蒸镀/掩模控制系统；
主要学科领域：材料科学
服务内容：具有差分RHEED,可以实时监测氧化物薄膜的制备过程；可以通过组合式掩模实现多元组合薄膜的高通量制备。 PLD技术具有巨大的优点，研究者不断探究PLD能够沉积薄膜材料的种类。现在，PLD几乎可以制备现有的各种薄膜材料。目前，该技术在薄膜材料方面的研究主要集中在以下几个方面。1.超导薄膜；2.金刚石和类金刚石薄膜；3.巨磁电阻薄膜；4.铁电、压电和光电薄膜。可提供服务：1.PLD技术培训，以生长SrTiO3薄膜为例，通过RHEED观察到10次以上的震荡；2.常规薄膜的制备；3.特殊材料的生长工艺参数开发；
用户须知：