超高真空脉冲激光沉积系统-光衍未来

超高真空脉冲激光沉积系统

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设备简介

主要功能：1、制备高质量氧化物薄膜、金属薄膜，以及通过原位传递在不暴露大气的情况下实现氧化物薄膜和金属薄膜的有机结合，制备高质量器件。 2、该设备处于国内领先水平。
主要技术指标：主腔体:(1)本底真空度优于5E-9Torr; (2) 配置红外激光加热和电阻加热双加热系统，最高加热温度不低于1100摄氏度；(3) 配置30 keV高气压高能电子束衍射系统，可在最高不低于0.4 Torr氧压下原位监控样品生长；(4)配置高浓度臭氧产生、供给和后处理装置；(5)样品托可在进样室、脉冲激光沉积室和电子束蒸发室之间顺畅传输；（6）除臭氧气路外，不少于双路进气。电子束蒸发室：(7)本底真空度优于1E-9Torr; (8)样品台可连续旋转，可加热，最高加热温度不低于800摄氏度；（9）与超高真空系统兼容的电子束蒸发源，不少于6个pocket（10）配置高品质清洗离子源；（11）配置掩膜系统，（12）配置臭氧气路
主要学科领域：材料科学
服务内容：
用户须知：