- 主要功能:MEMS或CMOS器件的刻蚀工作,包括双面深刻蚀Si,Poly-Si,SiNx,SiO2,W,WSi,Mo,MoSi,Ta,TaSi,石英等。
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- 主要技术指标:激励电源:13.56MHz 1500W,AE公司;带匹配器和功率计1台。 偏压电源:500W,带自动匹配器和功率计。带定时器1台。 真空系统:620升/秒分子泵,8升/秒机械泵1台,带真空计。 反应室尺寸:300mm。 气路系统:6路进气,4个质量流量计,4路显示。 可加工片子尺寸:4英寸。可双面氯基刻蚀。 均匀性:5%(4英寸内)。
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- 主要学科领域:自然科学相关工程与技术
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- 服务内容:用于MEMS或CMOS器件的刻蚀工作。 物理,电子,材料,光学,生仪等专业
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- 用户须知:
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