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设备预约
  • 主要功能:1)可沉积氧化铝,氧化钛,氧化硅,氮化钛等薄膜,对非平面结构实现均匀的共型薄膜覆盖; 2)2路直抽管路,反应源瓶不可加热,管路可加热到最高200度,用于高蒸汽压反应源,如H2O和铝源TMA; 3)1路直抽管路,反应源瓶和管路均可加热到最高200度,用于室温下低蒸汽压反应源,如硅源SAM.24; 4)1路氮气鼓泡管路,反应源瓶和管路均可加热到最高200度,用于加热也不能获得高蒸汽压的反应源,如钛源TTIP; 5)300W的CCP等离子体源可将氨气或者氧气解离生成活性基团,注入反应腔参与ALD的反应,再100度下可获得致密薄膜; 6)原位椭偏仪可对整个ALD的过程进行监控,可使沉积停止于目标厚度;
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  • 主要技术指标:通过加热方式或者等离子体方式,进行原子层沉积氧化物和氮化物薄膜; 1)配置有4路液体源注入,其中 2路直抽管路,管路可加热到最高200度,反应源瓶不可加热; 1路直抽管路,反应源瓶和管路均可加热到最高200度; 1路氮气鼓泡管路,反应源瓶和管路均可加热到最高200度; 2)配置有300W的CCP等离子体源和两路反应气体,分别是氨气和氧气,通过等离子体解离后注入反应腔; 3)衬底可加热到最高300度;
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  • 主要学科领域:工程与技术科学基础学科
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  • 服务内容:主要用于对复杂3D形貌的结构进行保型性薄膜覆盖,如对MEMS或者先进的微电子器件中很高的深宽比的沟槽内壁的填充和覆盖;对纳米线或者纳米管等的外壁进行覆盖等;也可用于形成高质量的高介电常数薄膜(氧化物)或者金属接触层薄膜(氮化物);还可用于形成高质量的叠层薄膜结构,实现光学的性能。
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  • 用户须知:
已测试 36 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  •  主要功能:研究物质在纳米尺度上(1-100nm)的几何结构,测定散射体的形状、尺寸及其分布。适用于从液体到固体的多种形态,可以得到诸如纳米粒度分布、形貌、结晶、取向、比表面等纳米结构信息,以研究物质性能与其结构的关系,以及在不同加工条件下的动态结构变化。可以测量的材料范围非常宽。如:聚合物、胶体、液晶、纤维、金属以及生物材料。对样品的适用范围非常宽,一般情况下,液体、粉末、薄膜、块体材料,甚至活体都可以测试;在研究液体时最为方便。
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  • 主要技术指标:温度测量范围:-100℃~320℃ 光源类型:高亮度微焦斑固定靶点光源,靶材Cu,功率30W 最大功率密度≥8.0 KW/mm2 靶上焦斑直径≤30μm 小角探测器信号采集面积:70mm×83.8 mm 广角探测器信号采集面积:83.8 mm×33.5mm 点扩散函数PSF≤1个像素 探测器量子效率≥98% 升降温速率:0.1-100℃/min 2θ角度范围:0.03°至60°二维图谱 实际测试的样品纳米粒径尺寸:≥250 nm
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  • 主要学科领域:化学、材料
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  • 服务内容:小角散射SAXS、广角散射WAXS、 原位变温散射、 原位拉伸散射、 掠入射GIWAXS
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  • 用户须知:一、请用户联系管理员填写测试样品检测委托单,管理员根据测试需求安排测试。 二、送验的样品应具有代表性并满足分析测试要求,如需要本平台制样,则需提供足够数量的样品,本平台依制样的难易程度,酌情进行收费。 三、贵重样品、有毒或有放射性的危险样品,容易变质和损坏的样品,有磁性的样品和易磁化的样品请在测试委托单中说明,必要时请注明保管条件。 四、检验费按平台规定收取。一般本平台在收到样品后5个工作日进行测试;测试完成5个工作日出具检验结果。成分复杂、难处理或检测方法不明确要做试验探索的,会适当延长检验时间。要求本平台加急出示测试结果的,平台将收取加急费用。 五、对于有长期测试需求的用户,可签订委托协议,具体事宜请与联系人联系。 六、本平台郑重声明:严守秘密,保护委托方所有权包括专利权、技术秘密、商业秘密等不受侵犯。
已测试 29 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
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