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  • 半导体材料微纳结构观察表征系统
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  • 主要功能:观察拍摄样品微纳结构
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  • 主要技术指标:"1. 电子光学系统:1.1 二次电子分辨率:1.0nm@15kV,1.6nm@1kV(非样品台减速模式下);1.2 最大放大倍率1,000,000倍(底片放大倍率),根据加速电压和工作距离的改变,改变放大倍数时自动校准;1.3 电子束加速电压:0.02kV~30 kV,步进10V,连续可调;1.4 着陆能量范围(Electron beam landing energy range):20eV~30keV(非样品台减速模式);1.5 电子束流:最大束流20nA;1.6 电子枪为肖特基场发射电子枪,电子束束流稳定性优于0.2%/h;1.7 配合能谱分析在35°最佳出射角时,分析工作距离可近到8.5mm;1.8 在1 kV以下,直接对倾斜样品,样品断面,样品边缘或易损伤的不导电样品进行高分辨成像;1.9 可对铁磁性和易磁性材料进行2mm内短距离下,进行底片倍率高于200,000倍的高分辨成像;1.10 可变光阑孔:6孔,光阑孔自动切换,无需移动光阑;1.11 具有双通道模式,可以在同一区域同时进行镜筒内二次电子和背散射两个探测器拍照,得到同区域的二次电子和背散射的图片;2. 样品室及样品台:2.1 样品室:样品室内部尺寸365mm(直径)× 275mm(高);2.2 可直接放入的样品最大样品尺寸达200mm;2.3 配置五轴优中心马达驱动样品台,移动XY方向最大移动范围:X=125mm,Y=125mm, R=360°(旋转);2.4 样品台Z方向最大移动范围:Z=50mm,双向倾斜,倾斜范围-10°至90°;"
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  • 主要学科领域:物理学
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  • 服务内容:压缩机,消磁器,防震台,气浮台,温控器,UPS,能谱仪
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  • 用户须知:
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