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  • 主要功能:流变频电机试验台是自制设备永磁牵引电机性能测试平台的核心组成部分,用于永磁牵引 电机的性能测试,测试数据用于电机设计与优化。
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  • 主要技术指标:永磁牵引电机性能测试平台--交流变频电机试验台主要包括以下几个部分: 1、测试 电机 安装平台。 其中转矩转速传感器量程0~10kN.m,转速最大7000rpm ,可连续测量旋转 轴的扭矩、转速、功率,输出均为标准信号 4 mA-20mA,可直 接接二次仪表或数据采集 系统,准确度为0.5%。 2、可调变频试验电源系统(1M W) 系统由整流器、逆变器、冷 却系统及其控制部分组成。主要为不同的被试永磁牵引 电机提供试验电源。直流侧额定电 压DC 3600 V;输出额定交流电压2800V; 输出额定电流500A。 3、发电机组和励磁柜 该 发电机组由交流变频电机和同步 发电机组成,为被试永磁牵引电机提供标准正弦电源。同 步发电机参数:额定功率300k W、三相交流输出电压0~1480V、额定电流152A、额定电 压1140V、额定频 率80Hz、电机额定转速 480rpm、最高转速1500rpm。交流变频驱动电 机 参数:额定功率350kW、额定电压690V、额定电流293A、电机额定转速480 rpm~150 0rpm、频率16 Hz~50.5Hz。 4、高压配电系统 主 要由变压器组成。 5、控制系统 控制 系统主要在控制台上进行。主要对试验台的交 流传动系统、高压配电系统和辅助配电系统 进行控制和调节,同时对试验台信息进行收集和 监视,进行故障显示和故障处理提示、B
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  • 主要学科领域:动力与电气工程
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  • 服务内容:
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  • 用户须知:培训后使用
已测试 5 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 主要功能:该设备通过在反应腔室中通入可以与被刻蚀材料起化学反应的气体,射频电源将反应气体电离产生等离子体,基底被浸渍于高反应活性的等离子体中,基底表面未被掩蔽的部分与气体离子进行反应,反应产物呈气态排出腔室,从而实现材料刻蚀。   该设备主要用于硅及二氧化硅快速刻蚀及其他硅基材料的刻蚀,在衬底上形成高深宽比(如Aspect Ratio100以上)的图案结构微纳米结构。 应用领域包括:MEMS器件的制造(加速传感器等)、喷墨印表机喷头、三维封裝中的硅穿孔、医疗器件的制造。
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  • 主要技术指标:1) 深硅刻蚀 -百微米级Trench(光刻胶掩模): a) 刻蚀速率不低于 50 um/min; b) 硅:光刻胶选择性(Selectivity),不低于 100 c) 刻蚀轮廓(Profile),轮廓角度> 85 度 d) 刻蚀均匀性(Uniformity,100mm衬底,10mm边缘去除),片内5点< 5% ; 2) 深硅刻蚀-微米级Trench(光刻胶掩模): a) 刻蚀速率不低于60 um/min; b) SiO2:光刻胶选择性(Selectivity), 不低于 10 c) 刻蚀轮廓(Profile),轮廓角度> 85 度 d) 刻蚀均匀性(Uniformity,100mm衬底,10mm边缘去除),片内5点< 5% ; 3) 深硅刻蚀-百微米级(二氧化硅掩模): a) 刻蚀速率不低于 10 um/min; b) Si3N4:光刻胶选择性(Selectivity), 不低于 400 c) 刻蚀轮廓(Profile),轮廓角度> 85 度 d) 刻蚀均匀性(Uniformity,100mm衬底,10mm边缘去除),片内5点< 5% ;
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  • 主要学科领域:工程与技术科学基础学科
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  • 服务内容:主要用于硅的快速刻蚀及其他硅基材料的刻蚀,形成微纳米结构。 应用领域包括:MEMS器件的制造(加速传感器等)、喷墨印表机喷头、三维封裝中的硅穿孔、医疗器件的制造。
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  • 用户须知:
已测试 10 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
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