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超高分辨率单分子动力分析系统

主要功能：单分子测量。3.1.1双光镊，波长1064nm，光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器，独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率：＜0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。 *3.1.4最大逃逸力：＞1000 pN (4.5 μm 微球条件下) 。 3.1.5光阱刚度范围：0.05pN/nm-1.5pN/nm（1μm 微球条件下） *3.1.6力学稳定性：2分钟内的漂移＜0.3 pN 3.1.7力学探测器类型：位置敏感探测器PSD *3.1.8光阱距离分辨率：＜0.3nm @100Hz 3.1.9最小步移：＜3nm 3.1.10实时微球追踪精度＜3 nm (@100 Hz)。 3.1.11微球运动范围＞35um（x）
主要技术指标：3.1.1双光镊，波长1064nm，光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器，独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率：＜0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。 *3.1.4最大逃逸力：＞1000 pN (4.5 μm 微球条件下) 。 3.1.5光阱刚度范围：0.05pN/nm-1.5pN/nm（1μm 微球条件下） *3.1.6力学稳定性：2分钟内的漂移＜0.3 pN 3.1.7力学探测器类型：位置敏感探测器PSD *3.1.8光阱距离分辨率：＜0.3nm @100Hz 3.1.9最小步移：＜3nm 3.1.10实时微球追踪精度＜3 nm (@100 Hz)。 3.1.11微球运动范围＞35um（x）
主要学科领域：物理学
服务内容：单分子测量。3.1.1双光镊，波长1064nm，光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器，独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率：＜0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。
用户须知：提前一周

已测试 21 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

纳米划痕仪

主要功能：测试薄膜和基底的临界附着力，划痕深度、划痕宽度、凸起高度以及材料的粘弹性恢复等力学性能。
主要技术指标：划痕正向力载荷 10uN-1N 最大摩擦力 1N（或200mN）摩擦力分辨率 6uN（或300nN）最大划痕深度 200 um 最大划痕长度 120mm 划痕速度 0.4-600mm/min，连续可调
主要学科领域：材料科学
服务内容：用于薄膜、涂层力学性能测试
用户须知：

已测试 11 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

结构试验设备

主要功能：结构试验设备，安装加载构件
主要技术指标：5.5mx9mx6m
主要学科领域：土木建筑工程
服务内容：结构试验设备，安装加载构件
用户须知：

已测试 5 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

进口代理剪切试验机

主要功能：适用于金属材料的拉伸试验、剪切试验
主要技术指标：试验力测量范围/Testing force range: ±0.5％（0.5-100%）位移分辨率/ Displacement resolution: 0.06um 温度范围/ Temperature range: -196℃~350℃
主要学科领域：材料科学
服务内容：适用于金属材料的拉伸试验、剪切试验
用户须知：

已测试 3 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

ICP干法刻蚀机

主要功能：主要功能：等离子刻蚀是利用高频辉光放电效应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀部位，与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性反应物而被去除。其优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。
主要技术指标：1. 反应腔室本底真空： < 1 x 10-6 mbar (1x 10-4 Pa)，抽真空2小时后 2. 反应腔室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 3. 预真空室本底真空： < 1 x 10-1 mbar (10 Pa) 4. 预真空室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 5. 样片操作：不同设置：样片进/出 6. 气路系统：测试所有质量流量计（设定值10%, 50%, 90%） 7. 压力控制：压力计/控制阀，不同压力 8. 下电极温度控制：不同设置，-30oC~ +200oC（带循环冷却器Chiller）或RT~ +250oC（外接冷却水） 9. 等离子体测试：不同设置（Ar或N2） 10. 反射功率： ≤ 1%，ICP功率 ≥ 500 W≤ 5 W，ICP功率 < 500 W 11. 其他：安全互锁、运行工艺处方（Recipe）等 12. SiC刻蚀工艺 Cr掩膜刻蚀深度：≥ 2 μm 刻蚀速率：≥ 400 nm/min 选择比：≥ 40:1 （SiC: Cr）片上不均匀性：在50 mm范围内 ≤ ±4%（6mm边除外）批间不均匀性：≤ ±5% 陡直度：85° ～ 90° 13. GaAs/AlGaAs刻蚀工艺光刻胶掩膜刻蚀深度：≥ 2 μm 刻蚀速率：≥ 400 nm/min 选择比：≥ 5:1 （GaAs: 光刻胶）片上不均匀性：在100 mm范围内 ≤ ±4%（6mm边除外）批间不均匀性：≤ ±5% 陡直度：90° ±2° 14. InP刻蚀工艺 SiO2掩膜刻蚀深度：≥ 20 μm 刻蚀速率：≥ 500 nm/min 选择比：≥ 15:1 （InP: SiO2）片上不均匀性：在100 mm范围内 ≤ ±4%（6mm边除外）批间不均匀性：≤ ±5% 陡直度：90° ±3°
主要学科领域：材料科学,物理学,电子与通信技术,动力与电气工程
服务内容：共享学科：材料学科、机械学科、电力电子学科和半导体学科。
用户须知：

已测试 3 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

动静态万能机高低温烘箱

动静态万能试验机+高低温烘箱
主要功能：在高温和低温状态下进行多种低周和高周疲劳试验、裂纹扩展和断裂韧度试验，以及其它动态试验
主要技术指标：最大工作压力207bar
主要学科领域：材料科学
服务内容：在高温和低温状态下进行多种低周和高周疲劳试验、裂纹扩展和断裂韧度试验，以及其它动态试验
用户须知：

已测试 10 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

喷墨印花机

主要功能：可在织物上进行喷墨印花
主要技术指标：自动喷嘴检测技术，自动喷嘴清洗技术
主要学科领域：纺织科学技术
服务内容：可在织物上进行喷墨印花
用户须知：提前一月预约

已测试 20 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

太阳能塔式定日镜场试验平台

高精度太阳能塔式定日镜场及智能控制试验平台
主要功能：1. 主要包括定日镜设备本体、境场控制系统、校正系统 1.1试验平台工作温度-20~50℃，工作湿度0%~85%； 1.2 定日镜平均跟踪精度≤4mrad； 2. 定日镜设备本体 2.1 主要包括本体反射镜、定日镜支架及基础、传动部件； 2.2 反射镜面积≥1400m2，反射率≥92%； 2.3 定日镜最大运行风速14m/s，破坏风速30m/s； 2.4 设计寿命25年； 2.5 具有初始化、自检、预备、追日、校正、清洗、关场、安全等运行模式； 3. 境场控制系统 3.1 每台定日镜配置一台控制器，负责该定日镜的运动控制和运行状态上传； 3.2 控制器达到防水、防雾和防尘等级IP55； 3.3 控制系统具有发送操作命令、批量控制定日镜、报警等功能； 3.4 不同聚光焦点位置的切换以及定日镜投入数目的选择； 3.5 控制系统留有接口可以扩展定日镜面积（数量）至3000m2以上； 4. 提供光斑误差校正系统，全境场校正时间＜60天；
主要技术指标：1. 主要包括定日镜设备本体、境场控制系统、校正系统 1.1试验平台工作温度-20~50℃，工作湿度0%~85%； 1.2 定日镜平均跟踪精度≤4mrad； 2. 定日镜设备本体 2.1 主要包括本体反射镜、定日镜支架及基础、传动部件； 2.2 反射镜面积≥1400m2，反射率≥92%； 2.3 定日镜最大运行风速14m/s，破坏风速30m/s； 2.4 设计寿命25年； 2.5 具有初始化、自检、预备、追日、校正、清洗、关场、安全等运行模式； 3. 境场控制系统 3.1 每台定日镜配置一台控制器，负责该定日镜的运动控制和运行状态上传； 3.2 控制器达到防水、防雾和防尘等级IP55； 3.3 控制系统具有发送操作命令、批量控制定日镜、报警等功能； 3.4 不同聚光焦点位置的切换以及定日镜投入数目的选择； 3.5 控制系统留有接口可以扩展定日镜面积（数量）至3000m2以上； 4. 提供光斑误差校正系统，全境场校正时间＜60天；
主要学科领域：能源科学技术
服务内容：
用户须知：提前一个月申请

已测试 57 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

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