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  • 超高真空脉冲激光沉积电子束蒸发系统
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  • 主要功能:脉冲激光沉积技术具有成膜的化学成分计量比和靶材一致、生长快速等众多优点,几乎适用 于所有的固态氧化物材料以及其他很多材料,被广泛应用于物理学和材料学等研究领域; 电 子束蒸发是非常强大的金属薄膜制备技术,特别适合制备各种金属电极。脉冲激光沉积 和电 子束蒸发的结合可以实现氧化物电子器件的原位加工和制备,可以更好地研究包含氧 化物材 料在内的众多材料的本征电输运性质。
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  • 主要技术指标:本系统主体由预真空进样室、超高真空脉冲激光沉积室、超高真空电子束蒸发室和 准分 子激光器四部分组成。所有主要部件皆须使用进口产品。主要分项技术指标如下: (一) 预真空进样室 1、本底真空度优于5E-7 torr; 2、采用两支 与超高真空相容的线性传送杆, 分别将样品传送到脉冲激光沉积室和电子束蒸发室,并有脉 冲激光沉积室内的样品及靶材 传递机构。 (二)超高真空脉冲激光沉积室 1、本底 真空度优于5E-9 torr; 2、样品台系 统为一套红外激光加热器; 3、样 品台系统包含一个X/Y/Z操控平台,用于控制样品在三个 维度上的位置; 4、样品 托为SiC,要求可装载样品直径为10 x 10 mm样品,样品托上配有 電腦控 制的气动挡板; 5、对于激光加热器:在真空环境无负载下,要求开始加热90 秒 内温度不低于 1000 ℃;开始加热10小时后,距样品端20cm之外的 部分温度不高于70℃; 配 备pyrometer测温器用于探测样品温度; 6、要求即使在一个大气压(760 torr)的氧压 环境中,加热器也可在最高温 度下 长时间工作;样品温度可用电脑控制; 7、要求有30 k eV高气压 高能电子束衍射系统,二级差分抽气,含衍射成像系统; 8、靶材台可放6个1 吋的靶 材,在沉积过程中,靶材必须同时自转和摆动,以实 现激光对靶材的均匀烧蚀; 9 、含两路独立的电脑控制气流流量通道; 10、激光入射窗口配置隔离阀,可在 不破坏真空 环境下更换或清洗视窗。 (三)超高真空电子束蒸发室 1、本底真 空度优于5E-9 torr; 2 、样品托可在进样室、脉冲激光沉积室和电子束蒸发 室之间顺畅传输; 3、电子束系统 可使用TELEMARK,与超高真空系统相容, 电子束蒸发源含6个pocket,容量7 cc (or 15 c c),最高输出功率 可达6 kW; 4、含监控厚度的晶振系统; 5、含马达控制的掩模系统; 6 、含一个不低于500W的热蒸发源。 (四)准分子激光器 (建议Cohere nt COMPex201 或205。) 1、* 波长: 248 nm 2、* 脉冲能量: 700 mJ 3、 平均功率: 5 W 4、* 最大重 复频率: 10Hz 5、 脉冲宽度: 25 ns 6、* 能量稳定性(1 Sigma): 1% 7、 光斑 大小(V×H): 24× 10 mm 8、 光束 发散角(V×H): 3×1 mrad
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  • 主要学科领域:材料科学
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  •  服务内容:
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  •  用户须知:无
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