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非晶薄带制备系统
主要功能：主要用于非晶薄带的制备
主要技术指标：100-2.5/150-160/100多种宽带的薄带
主要学科领域：材料科学
服务内容：提供非晶薄带制备工艺调试试验
用户须知：提前预约
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双弯曲磁控溅射镀膜装置
双弯曲磁过滤阴极电弧复合磁控溅射镀膜装置
主要功能：制备不同结构、功能设计的高性能薄膜材料
主要技术指标：硬度64GPa、膜基结合力（60N）、应力（6GPa）、摩擦系数（0.1）
主要学科领域：材料科学
服务内容：制备不同结构、功能设计的高性能薄膜材料
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等离子增强化学气相沉积
主要功能：沉积a-Si,SiNx, SiO2薄膜
主要技术指标：本设备主要提供高质量薄膜生长
主要学科领域：材料科学,能源科学技术
服务内容：
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高分子成膜系统
主要功能：对高分子材料进行膜制备
主要技术指标：1.薄膜成型厚度：(0.015~0.100)mm；2.薄膜的最大宽度：成品宽度460mm，3.挤出产量：(10-30)kg/h；4.生产线速度：(3-10)m/min
主要学科领域：材料科学
服务内容：对高分子材料进行膜制备
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