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  • 连续式旋转靶ZnO压敏陶瓷磁控溅射金属化中试设备
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  • 主要功能:主要提供ZnO压敏陶瓷等电子陶瓷元器件的磁控溅射金属化试验研究。连续式旋转靶ZnO压敏陶瓷磁控溅射金属化中试设备为同端进出式结构,由装片/卸片台、预抽室、前缓冲室、溅射室、后缓冲室、真空抽气机组、磁控溅射系统、电源系统、自动控制系统等十余个模块组成,配置十套旋转靶磁控溅射源,能在同一真空周期内双面溅射多层金属膜;由涡轮分子泵机组无油抽气,可获得洁净真空;用集散型工控微机网络实施实时监控、声像提示、自动操作;先进的真空锁能保证可靠的密封;摩擦式传动系统使片架平稳传输。
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  • 主要技术指标:一、真空系统指标 ? 1)同端进出、可连续式双面溅射镀膜;2)由装片/卸片台、预抽室、前缓冲室、溅射室、后缓冲室、真空抽气机组、磁控溅射系统、电源系统、自动控制系统等十余个模块组成;3)集散型工控微机网络实施实时监控、声像提示、自动操作;4)摩擦式片架传输系统;5)真空机组快速、无油抽气;6)配置高密封性的高真空阀门,溅射室真空度为5.0×10-4 Pa时,预抽室频繁充放大气不得影响溅射室真空度;7)极限真空(溅射室,空载):优于2×10-4 Pa;8)排气时间:预抽室压强达到5 Pa约3分钟; 二、溅射系统指标 1)可磁控溅射Ni、Ag、Cr、Cu、Al、Ti等金属及金属化合物薄膜;2)配置10套磁控溅射旋转靶,靶材利用率>90%,靶长1180 mm;3)溅射靶最大功率15 kW; 三、膜系指标 1)“过渡层+阻挡层+焊接层”的多层金属化膜系结构;2)膜厚:0.75~6微米可调;3)有效溅镀区域内均匀度<=±5%;4)膜层的抗拉强度:引线直径1.0 mm,水平拉力>=2.0 kg;5)抗高温焊料溶蚀性:420 ℃高温无铅焊锡槽中浸渍3 s,不出现溶蚀、脱膜;6)针对34 × 34 × 3.7 mm的氧化锌防浪涌陶瓷片,需承受8/20 μs 脉冲电流 30 kA 20次、60 kA 2次的通流性能测试; 四、效率指标 1)有效镀膜区域:1000 × 1000 mm;2)金属化周期:每架镀膜时间约15~20分钟; 五、其他 1)五年内包修包换;2)设备出现故障3小时响应,12小时内修复;
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  • 主要学科领域:自然科学相关工程与技术
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  • 服务内容:
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  • 用户须知:无
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