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真空自耗炉
主要功能:在真空环境下,自耗电极在电弧的高温作用下快速熔化,并在水冷铜结晶器内受控凝固。 熔融金属不受耐火材料污染,能够去除气体、非金属夹杂物和部分低熔点的有害杂质。 适合于钛、铌、锆等活泼金属和钨、钼等难熔金属,也用来熔炼铁基、镍基、钴基等特种合金。 通过熔滴控制技术能实现自耗电极的受控恒熔速熔化,以获得高品质的重熔合金。
主要技术指标:额定容量:100 公斤镍基合金 最大熔炼电流:2000A 最大坩埚:F200mm×800mm 最小坩埚:F70 mm×300mm 最大电极:F150mm×900mm 电极杆行程:800mm 知名用户:
主要学科领域:材料科学,机械工程,冶金工程技术
服务内容:在真空环境下,自耗电极在电弧的高温作用下快速熔化,并在水冷铜结晶器内受控凝固。 熔融金属不受耐火材料污染,能够去除气体、非金属夹杂物和部分低熔点的有害杂质。 适合于钛、铌、锆等活泼金属和钨、钼等难熔金属,也用来熔炼铁基、镍基、钴基等特种合金。 通过熔滴控制技术能实现自耗电极的受控恒熔速熔化,以获得高品质的重熔合金。
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穆尔数控坐标磨床
主要功能:穆尔坐标磨床500型为高精度连续轨迹磨床,拥有无与伦比的精度和重复精度,可以满足高精度要求,最多可达7轴数控,可以进行复杂的二维、三维零件加工。
主要技术指标:工作台工作表面:305mm*610mm 行程X轴:500mm 行程Y轴:300mm 主轴箱行程W轴:350mm 磨削孔径能力:04mm-343mm 工作台承载能力:300KG
主要学科领域:机械工程,动力与电气工程,航空、航天科学技术
服务内容:穆尔坐标磨床500型为高精度连续轨迹磨床,拥有无与伦比的精度和重复精度,可以满足高精度要求,最多可达7轴数控,可以进行复杂的二维、三维零件加工。
用户须知:穆尔坐标磨床500型为高精度连续轨迹磨床,拥有无与伦比的精度和重复精度,可以满足高精度要求,最多可达7轴数控,可以进行复杂的二维、三维零件加工。
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催化键合工艺设备
主要功能:X、Y:0.2nm,位置调整分辨率0.1μm面内角5μrad
主要技术指标:器件表面检测分辨率优于10μm
主要学科领域:航空、航天科学技术
服务内容:
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自动转台式多工位组合加工机床
主要功能:金属笔头加工及材料性能测试
主要技术指标:整机加工精度4um,加工速度80头/min
主要学科领域:hidden
服务内容:暂不提供对外开放服务
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拟动力结构试验系统
主要功能:可完成静载、动载、抗震等各类实验
主要技术指标:25T疲劳/50T/100T
主要学科领域:土木建筑工程
服务内容:100T往复一个;50T往复两个;25T疲劳一个; 功能/应用范围: 该设备主要用于土木工程中各种结构低周反复加载;结构拟动力试验开发;该仪器具有力控制、位移控制及任意加载过程方式等功能。
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镀膜系统
主要功能:闭合场非平衡磁控溅射(Closed field unbalanced magnetron sputter);6靶磁控溅射(Six magnetrons)
主要技术指标:镀膜空间: Φ900mm×800mm;沉积温度:140-400℃;装炉质量:0-250kg;镀膜周期:4-10h
主要学科领域:材料科学
服务内容:样品制备
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磁控溅射金属化中试设备
连续式旋转靶ZnO压敏陶瓷磁控溅射金属化中试设备
主要功能:主要提供ZnO压敏陶瓷等电子陶瓷元器件的磁控溅射金属化试验研究。连续式旋转靶ZnO压敏陶瓷磁控溅射金属化中试设备为同端进出式结构,由装片/卸片台、预抽室、前缓冲室、溅射室、后缓冲室、真空抽气机组、磁控溅射系统、电源系统、自动控制系统等十余个模块组成,配置十套旋转靶磁控溅射源,能在同一真空周期内双面溅射多层金属膜;由涡轮分子泵机组无油抽气,可获得洁净真空;用集散型工控微机网络实施实时监控、声像提示、自动操作;先进的真空锁能保证可靠的密封;摩擦式传动系统使片架平稳传输。
主要技术指标:一、真空系统指标 ? 1)同端进出、可连续式双面溅射镀膜;2)由装片/卸片台、预抽室、前缓冲室、溅射室、后缓冲室、真空抽气机组、磁控溅射系统、电源系统、自动控制系统等十余个模块组成;3)集散型工控微机网络实施实时监控、声像提示、自动操作;4)摩擦式片架传输系统;5)真空机组快速、无油抽气;6)配置高密封性的高真空阀门,溅射室真空度为5.0×10-4 Pa时,预抽室频繁充放大气不得影响溅射室真空度;7)极限真空(溅射室,空载):优于2×10-4 Pa;8)排气时间:预抽室压强达到5 Pa约3分钟; 二、溅射系统指标 1)可磁控溅射Ni、Ag、Cr、Cu、Al、Ti等金属及金属化合物薄膜;2)配置10套磁控溅射旋转靶,靶材利用率>90%,靶长1180 mm;3)溅射靶最大功率15 kW; 三、膜系指标 1)“过渡层+阻挡层+焊接层”的多层金属化膜系结构;2)膜厚:0.75~6微米可调;3)有效溅镀区域内均匀度<=±5%;4)膜层的抗拉强度:引线直径1.0 mm,水平拉力>=2.0 kg;5)抗高温焊料溶蚀性:420 ℃高温无铅焊锡槽中浸渍3 s,不出现溶蚀、脱膜;6)针对34 × 34 × 3.7 mm的氧化锌防浪涌陶瓷片,需承受8/20 μs 脉冲电流 30 kA 20次、60 kA 2次的通流性能测试; 四、效率指标 1)有效镀膜区域:1000 × 1000 mm;2)金属化周期:每架镀膜时间约15~20分钟; 五、其他 1)五年内包修包换;2)设备出现故障3小时响应,12小时内修复;
主要学科领域:自然科学相关工程与技术
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非晶态材料制备系统
主要功能:承接非晶态材料制备系统-设备相关业务
主要技术指标:非晶态材料制备系统-具体指标见型号或面议
主要学科领域:材料科学
服务内容:承接非晶态材料制备系统-设备相关业务
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