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  •     主要功能:利用 PPMS 系统的低温强磁场环境和测量功能进行用户自己设计的实验,如铁电、介电、光或微波辐照下电输运、电场诱导下磁测量和磁电耦合等测量。
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  • 主要技术指标: 温控系统技术参数 温控范围:0.4K -400K, 可分段连续控温。 温度稳定性:<±0.2% @T < 10K; <±0.02% @T > 10K ? 磁场控制系统技术参数: 磁场范围:所含超导磁体最大场±14T, 磁场分辨率:0.02 mT to 1 T 0.2 mT to 14 T 磁场稳定性:1PPM/hour 变场速率:10-200 Oe/s 剩磁:< 5 Oe ? 可选物性测量插件: 比热测量:灵敏度<10 nJ/K @ 2 K;精确度<5%@2K-300K。 热导测量: 精确度:低于5%的测量误差。 动态测量范围:1 - 25 mW/K @T = 400 K 100 μW/K - 100 mW/K @ T = 50 K 10 μW/K - 1 mW/K @ T = 1.9 K 交直流电输运测量:灵敏度<3m??@H=14T. 交直流磁化率测量:灵敏度<2 x 10-8 emu @ 10 kHz 交流磁化率的频率范围:10-10KHz 直流磁化率可测范围:1 x 10-5 emu to 5 emu 振动样品磁强计VSM:灵敏度:<10-6 emu 噪音基:2×10-7 emu rms 精确度:< 5×10-6 emu/Tesla 振动频率:5Hz -80 Hz 最大可测磁矩:40 emu/振动峰值 75 emu/振动峰值(大线圈选件) ? 液氦自循环系统 系统运行时,包括在磁场扫描模式下(0-14T),实现系统液氦零蒸发。
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  • 主要学科领域:材料科学
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  • 服务内容:该设备可广泛应用于凝聚态物理、材料科学、化学等学科。我们将主要用该设备研究材料随温度、磁场的物性变化。
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  • 用户须知:无
已测试 11 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 主要功能:具有差分RHEED,可以实时监测氧化物薄膜的制备过程;可以通过组合式掩模实现多元组合薄膜的高通量制备。 PLD技术具有巨大的优点,研究者不断探究PLD能够沉积薄膜材料的种类。现在,PLD几乎可以制备现有的各种薄膜材料。目前,该技术在薄膜材料方面的研究主要集中在以下几个方面。1.超导薄膜;2.金刚石和类金刚石薄膜;3.巨磁电阻薄膜;4.铁电、压电和光电薄膜。 可提供服务:1.PLD技术培训,以生长SrTiO3薄膜为例,通过RHEED观察到10次以上的震荡;2.常规薄膜的制备;3.特殊材料的生长工艺参数开发;
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  • 主要技术指标:1、激光二极管基板加热系统,最高温度1100℃,温度精度不低于+/-1℃,可加热最大样品10*10mm; 2、双轴线性掩模系统,采用电机驱动,移动精度好于100μm; 3、最高工作气压20Pa的二级差分RHEED ; 4、6个1英寸靶位(公转+自转); 5、全自动蒸镀/掩模控制系统;
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  • 主要学科领域:材料科学
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  • 服务内容:具有差分RHEED,可以实时监测氧化物薄膜的制备过程;可以通过组合式掩模实现多元组合薄膜的高通量制备。 PLD技术具有巨大的优点,研究者不断探究PLD能够沉积薄膜材料的种类。现在,PLD几乎可以制备现有的各种薄膜材料。目前,该技术在薄膜材料方面的研究主要集中在以下几个方面。1.超导薄膜;2.金刚石和类金刚石薄膜;3.巨磁电阻薄膜;4.铁电、压电和光电薄膜。 可提供服务:1.PLD技术培训,以生长SrTiO3薄膜为例,通过RHEED观察到10次以上的震荡;2.常规薄膜的制备;3.特殊材料的生长工艺参数开发;
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  • 用户须知:
已测试 3 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
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