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悬挂及光读出设备
主要功能:扭称光度出20nrad角度分辨率
主要技术指标:20nrad角度分辨率
主要学科领域:航空、航天科学技术
服务内容:
用户须知:精密设备需提前使用需求
已测试
17
次 平均
7
个工作日完成
100%
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300KV场发射透射电子显微镜
主要功能:1.高性能的透射电子成像、扫描透射成像和纳米、原子尺度分析 2.所有的先进分析技术集成于一体: TEM、HR-TEM、STEM、HR-STEM、电子衍射和EDS 3.强样品穿透能力
主要技术指标:1.信息分辨率极限:0.14nm 2.点分辨率:0.20nm 3.线分辨率:0.10nm 4.高分辨STEM分辨率:0.17nm 5.样品最大倾角:±40°
主要学科领域:化学工程,材料科学,航空、航天科学技术
服务内容:各种分析技术: TEM、HR-TEM、STEM、SAED和EDS
用户须知:
已测试
16
次 平均
7
个工作日完成
100%
对测试结果满意
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角分辨光电子能谱仪
主要功能:通过测量不同出射角度的光电子的动能,就可以得到电子在固体中平行于样品表面的动量分量,从而得出晶体中电子的色散关系
主要技术指标:能量分辨率1.8meV,可测量电子动能范围:0.5eV-1500eV; 探测角度:+-15度。
主要学科领域:材料科学
服务内容:光电子的动能
用户须知:
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33
次 平均
7
个工作日完成
100%
对测试结果满意
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晶圆分析仪
主要功能:碳化硅衬底片和外延片的缺陷检测
主要技术指标:1.设备支持1寸-8寸晶圆测试,并保证完成全片整面检测。 2.设备支持非整晶圆的样片(如切片等)检测,进行手动放置自动检测。 3.设备可以检测的缺陷必须至少包括:划痕(scratch),凹坑(pit),突起(bump),微管(micropipe),胡萝卜(carrot),三角形(triangle),Downfall,堆垛层错缺陷(Stacking Fault),基平面位错(BPD)等各结晶及加工缺陷。 4.设备对晶圆各处具有相同的缺陷检测灵敏度的扫描方式,并且在晶圆的周边及整面同时检测出BPD和SF缺陷。 5.设备具备可提高颗粒物(particle)、划痕(scratch)检测精度的优化设计。 6.设备需包含10倍目镜镜头,对缺陷的最大放大倍数不低于130倍,单张图像对应的视场范围不小于1.5mm×1.5mm,具有图像拼接功能可以形成整晶圆的图像。 7.设备对晶圆的缺陷可以进行图像显示和图像保存,并提供清晰的图像,图像的像素尺寸要求:表面缺陷的像素尺寸≤1.75μm/Pixel,PL检测的缺陷像素尺寸≤3.5 μm/Pixel。 8.设备对缺陷的检测精度:可成功检出并分类的缺陷最小尺寸不大于4μm。 9.设备可以检测的晶圆厚度范围300μm-800μm。 10.PL检测系统同时满足SiC衬底片、薄外延片(外延厚度在10μm以内)以及厚外延片(外延厚度在10μm-70μm范围)的检测需求。
主要学科领域:物理学
服务内容:碳化硅衬底片和外延片的缺陷检测
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32
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7
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液相色谱串联高分辨质谱联用仪
主要功能:用于蛋白质生化功能和多肽组学分析、 全蛋白修饰,核酸,小分子定量分析。
主要技术指标:独立的可加热电喷雾离子源(ESI源);质量分析器采用四极杆与静电场轨道阱串联的组合,质量范围50-4000m/z;仪器分辨率:100,000 FWHM ( m/z=200);≥4档可调;MS/MS灵敏度(分辨率保持在60000 FWHM或以上):50fg 利血平进样S/N>500:1;扫描模式:高分辨全扫描MS和MS/MS 、高分辨选择离子扫描 、高分辨全子离子碰撞碎裂扫描、高分辨正负离子切换扫描、高分辨数据依赖子离子扫描、高分辨数据非依赖扫描(DIA-MS/MS)、高分辨平行反应监测子离子扫描。
主要学科领域:生物学
服务内容:主要涉及蛋白质组学,包括未知肽段的筛选、测序;肽质量指纹图谱测定;蛋白质分子量测定;高通量蛋白质表达谱测定;蛋白质相互作用鉴定;高通量蛋白质翻译后修饰种类研究和位点鉴定;
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23
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7
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100%
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数字血管减影造影X线机
主要功能:可完成全身各部位病变的介入治疗,如肝癌的血管栓塞术、肺癌的灌注化疗术、脑动脉瘤的栓塞术、脑动静脉畸形的栓塞术、冠脉狭窄的球囊扩张和支架植入术、先天性心脏病房间隔缺损和动脉导管未闭的堵闭术、二尖瓣和肺动脉瓣狭窄的球囊扩张术、胆道食道扩张和支架植入术、各种经皮穿刺活检和引流术等先进的介入手术。
主要技术指标:该机图像清晰度可达1024×1024,采集速度可达60幅/秒,C型臂可自由全角度旋转,能完成心血管、脑血管、主动脉、腹部脏器血管、盆腔血管、四肢血管等全身各部位血管的成像,对于上述各部位的血管性病变、肿瘤性病变等有确诊价值。
主要学科领域:军事医学与特种医学
服务内容:教学、实践、研究、实验
用户须知:
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16
次 平均
7
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100%
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近常压扫描隧道显微镜系统
主要功能:主要用于扫描样品表面形貌
主要技术指标:压力从超高压力到近常压,温度从100-500K
主要学科领域:化学
服务内容:主要用于扫描样品表面形貌
用户须知:仪器正在使用,预约待延后
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11
次 平均
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100%
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双束聚焦离子刻蚀系统
主要功能:切割和纳米加工的作用,并有原位成像的辅助功能,加以辅助气体还能实现焊接。
主要技术指标:一、 离子束 1. 分辨率:≤3.0nm@30kV; 2. 离子镜筒:Ion-sculpture镜筒; 3. 放大倍率范围不小于:300x~500kx; 4. 束流强度范围不小于:1pA-65nA; 5. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV; 二、 电子束 1. 分辨率:≤0.9nm@15KV;≤1.8nm@1kV; 2. 最大束流不低于20nA; 3. 放大倍率范围不小于:20x-2000kx; 4. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV; 三、 样品室及马达台系统 1. 样品室内部尺寸不小于330mm(宽)?330mm(深)?270mm(高); 2. 六轴高精度超优中心全自动马达样品台:样品台XY方向移动范围不低于100mm,Z方向移动范围不低于10mm,倾斜角度T范围不小于-4°到60°,旋转角度R=360°; 3. 样品预交换室:可放置样品最大尺寸不小于80mm; 四、 电子束曝光 1. 设备连接后,保证可实现将电镜切换成外部扫描模式; 2. 通过图形发生器设定写场,同时扫描图像后保证图像水平和垂直方向正确; 3. 通过图形发生器实现控制束闸的开关; 4. 通过图形发生器实现扫描电镜和其工作台的远程控制; 5. 使用标样对写场进行校准;
主要学科领域:自然科学相关工程与技术
服务内容:原位失效分析,定点投射样品制备,三维重构等方面
用户须知:无
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36
次 平均
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